多晶硅是用工業(yè)硅通過(guò)化學(xué)、物理途徑提純制得，多晶硅主要用于生產(chǎn)單晶硅和衛星太陽(yáng)能電池。單晶硅即硅半導體是多晶硅的衍生產(chǎn)品，是制造繼承電路和電子元件的優(yōu)質(zhì)材料，被廣泛應用于電子工業(yè)中。

 

還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個(gè)運行周期內，硅棒不斷長(cháng)大，一個(gè)運行周期結束后打開(kāi)鐘罩收割硅棒。但在運行期內，基盤(pán)及鐘罩表面均會(huì )產(chǎn)生一層土黃色粉末，其主要成分是無(wú)定形硅。在收割硅棒后，需要進(jìn)行基盤(pán)和鐘罩的清理，再裝硅芯進(jìn)行下一個(gè)周期的化學(xué)氣相沉積。

 

 

還原爐鐘罩污染物易造成內表面熱量反射減少，使生產(chǎn)能耗增加；電極周?chē)�污染物降低了點(diǎn)擊的絕緣而導致運行過(guò)程中接地故障、倒棒等生產(chǎn)事故。而用于電子行業(yè)的多晶硅對產(chǎn)品質(zhì)量純凈度的控制要求更高，

 

隨著(zhù)我國半導體工業(yè)發(fā)展，對多晶硅純度要求越來(lái)越高，還原爐沉積環(huán)境的潔凈度就顯得特別關(guān)鍵，任何顆粒性雜質(zhì)、油脂等物質(zhì)余留在爐內，都會(huì )對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。那么，如何清理能方便快捷，同時(shí)效果更佳？

 

多晶硅還原爐清洗系統始于2009年，國內第一家研發(fā)設計制造并獲得實(shí)用新型專(zhuān)利是北京德高潔清潔設備有限公司，該公司多晶硅還原爐鐘罩清洗系統覆蓋了國內多家多晶硅生產(chǎn)企業(yè)。早期有高壓清洗、化學(xué)溶劑低壓清洗、機械拋光等，但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗方式不僅不能將鐘罩清洗干凈，還會(huì )損傷表面鍍銀的還原爐鐘罩，為攻克這一難題，一款全新的用于電子級的多晶硅還原爐鐘罩清洗系統應運而生。

 

 

1、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統以水為動(dòng)力，以水力自驅動(dòng)三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來(lái)完成爐筒內部表面的水力掃射。

 

2、采用可以旋轉和升降的清洗吹干執行機構，根據還原爐每個(gè)視孔鏡相對原點(diǎn)的相對位置進(jìn)行準確定位�？勺詣�(dòng)切換不同清洗液及吹干，通過(guò)控制系統可對清洗、吹干時(shí)間等進(jìn)行調整。清洗時(shí)只需一鍵操作即可，操作簡(jiǎn)單方便。

 

3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級后的清洗工作臺，不僅可以滿(mǎn)足對內壁和視孔鏡的清洗，同時(shí)也滿(mǎn)足了底部法蘭的清洗�？蓪�(shí)現對法蘭內邊緣的清洗，保證整個(gè)法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。

 

4、在整個(gè)還原爐的清洗過(guò)程中，清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態(tài)，防止清洗外溢，同時(shí)將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過(guò)排污管排出，從而保證了整個(gè)過(guò)程不會(huì )對潔凈區造成污染。

 

 

經(jīng)過(guò)實(shí)際應用，多晶硅還原爐清洗系統整套系統可實(shí)現全自動(dòng)化清洗操作，在一個(gè)工作平臺上，一次吊裝可依次實(shí)現自動(dòng)清洗烘干全部功能，完全實(shí)現無(wú)死角清洗，同時(shí)具有完善的聯(lián)鎖和保護功能。