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多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統
時(shí)間:2016-03-09 來(lái)源: 北京德高潔清潔設備有限公司
改良西門(mén)子法是一種化學(xué)方法,主要由三氯氫硅與氫氣在1050℃~1150℃,一定壓力下進(jìn)行還原氣象沉積反應生產(chǎn)高純多晶硅,該工藝一直是半導體行業(yè)電子級多晶硅生產(chǎn)最主要的工藝方法。其中,還原爐和氫化爐是改良西門(mén)子法生產(chǎn)多晶硅的核心設備,其運行好壞直接影響多晶硅質(zhì)量及生產(chǎn)成本。還原爐和氫化爐為電耗較高的設備,一般企業(yè)為降低電耗及成本,大都釆取調整工藝參數、提供進(jìn)料溫度、提高冷卻水溫、清洗鐘罩等方法,其中鐘罩清洗對多晶硅生產(chǎn)非常重要,如果鐘罩清洗不干凈、光潔度不夠,常常會(huì )導致硅芯擊不穿或對產(chǎn)品質(zhì)量污染,因此擁有一套完善的多晶硅還原爐清洗系統對多晶硅生產(chǎn)廠(chǎng)家顯得尤為重要。
國內多晶硅鐘罩清洗方式多種多樣,有高壓清洗、化學(xué)溶劑低壓清洗、機械拋光等,但大多釆用堿液中壓清洗。我們在使用過(guò)程中發(fā)現這些清洗方式不能將鐘罩清洗干凈,不能滿(mǎn)足生產(chǎn)需求。為此,北京德高潔清潔設備有限公司經(jīng)過(guò)研發(fā)設計并制造出了多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統。
多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統是以高壓水射流為動(dòng)力的自驅動(dòng)三維旋轉噴頭形成360°的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面,從而完成鐘罩內部表面的水力掃射,并采用專(zhuān)用清洗劑等為主要清洗液,先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗,之后再采用高純水沖洗,最終完成清洗過(guò)程。具體特點(diǎn)如下:
1、核心部件高壓泵采用進(jìn)口耐酸堿、耐高溫、全不銹鋼的加壓泵,清洗作業(yè)時(shí)三維旋轉噴頭可實(shí)現自驅動(dòng)旋轉、自動(dòng)升降、全方位自動(dòng)清洗,并可保證多晶硅的純度;
2、利用多晶硅生產(chǎn)廠(chǎng)家的蒸汽余熱將清洗介質(zhì)加熱,從而改變原電加熱工藝;
3、利用多晶硅生產(chǎn)廠(chǎng)家的廠(chǎng)家蒸汽余熱,設置10萬(wàn)級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝;
4、北京德高潔清潔設備有限公司自行研發(fā)設計的自驅動(dòng)旋轉升降噴射機構可適應各規格的還原爐體;
5、由于清洗過(guò)程中會(huì )有氫氣和酸性物質(zhì)產(chǎn)生,所以必須解決二次污染問(wèn)題。我公司自行設計的全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染;
6、設計出高壓堿液和清水的供給和分開(kāi)回收裝置,并進(jìn)行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序,充分利用了廢水資源。
實(shí)際使用證明,北京德高潔清潔設備有限公司研發(fā)生產(chǎn)的多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統有效解決了生產(chǎn)中的實(shí)際問(wèn)題,為公司節能降耗提供了有利條件,適用于在全國范圍推廣應用。
- 標簽:
- 多晶硅
- 自動(dòng)化
- 還原爐鐘罩清洗系統
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