在當今的LCD顯示器生產(chǎn)過(guò)程中，清洗工藝的應用是非常重要的，例如涂膠前對ITO玻璃的清洗、顯影后對玻璃基板的清洗以及磨擦工藝后對玻璃基板的清洗等。液晶顯示器的一整套制備工藝中，清洗工藝就占到了總工作量的30%～40%。隨著(zhù)液晶顯示技術(shù)的不斷進(jìn)步，清洗工藝的地位也越來(lái)越重要。以下是液晶顯示器的生產(chǎn)流程簡(jiǎn)圖，我們可以從中看到清洗工藝在整個(gè)工藝路線(xiàn)中的重要性。
 
ITO薄膜層、TFT陣列等制備工藝過(guò)程以及玻璃基板的包裝、搬運、運輸和存儲過(guò)程是玻璃基板上的主要污染程序，其主要污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油或油脂等油，以及三氧化二鋁、二氧化硅等無(wú)機微粒和制備過(guò)程中遺留的殘留物、水跡、手指印等。在整個(gè)LCD的清洗過(guò)程中，業(yè)內針對上述污染物采用過(guò)不同的清洗方法，一方面是要去除玻璃基板上沾染的污染物，避免其對液晶顯示器的性能造成不良的影響，而另一方面也可以起到改善玻璃基板表面性能，增加其與加工過(guò)程中使用的各種材料之間的親合力。
 
隨著(zhù)液晶生產(chǎn)線(xiàn)對清洗工藝要求越來(lái)越高，工程師們提出了將高壓水射流技術(shù)應用于玻璃基板清洗中的可能。在使用常壓水噴淋清洗時(shí)，噴射到玻璃基板上的水在其高表面張力的作用下，會(huì )在玻璃簡(jiǎn)板表面形成一層水膜。水膜和混合基板表面上的微細顆粒和其他污垢，這反而會(huì )對污垢起到保護作用，后續的水則很難將這層水膜沖破，因此會(huì )使清洗效率降低。而高壓水射流技術(shù)是一種新型的清洗技術(shù)，我們采用超高壓微細顆粒水噴射清洗，將水形成大量的粒徑在幾微米到幾十微米的微細液滴，并以極高的速度和密度連續地噴射沖擊被清洗物表面。由于這種微細顆粒的水滴不可能形成對污垢有保護作用的水膜，因此對基板上的各種污垢特別是微細顆粒污垢有很好的去除效果。

將高壓清洗機應用到玻璃基板的清洗工藝中，可通過(guò)將清洗液加壓到100～300bar的壓力，再通過(guò)孔徑為0.5～1.5mm的微孔噴射嘴噴出，形成高流速的微小液滴來(lái)清洗玻璃基板。實(shí)際應用表明，高壓清洗機的應用提高了常壓噴淋清洗的洗凈力，縮短了清洗線(xiàn)的長(cháng)度，并且節省了凈化空間和DI水的使用量。